[Przetarg Warszawa] PLEASE SCROLL DOWN FOR THE ENGLISH VERSIONPrzedmiotem zamówienia jest:Dostawa zestawu dwóch identycznych orientometrów...
Terminy
Data publikacji ogłoszenia:
2025-04-03
Termin składania dokumentów:
2025-05-06
Dodaj do kalendarzaPLEASE SCROLL DOWN FOR THE ENGLISH VERSIONPrzedmiotem zamówienia jest:Dostawa zestawu dwóch identycznych orientometrów rentgenowskich zaprojektowanych specjalnie do pomiarów podłoży lub kryształów objętościowych, takich jak azotek galu (GaN), węglik krzemu (SiC) i podobnych.Orientometr rentgenowski – Dwa identyczne urządzenia.Wymagania dotyczące orientometru rentgenowskiego:• Orientometr rentgenowski zaprojektowany specjalnie do pomiarów podłoży lub kryształów objętościowych, takich jak azotek galu (GaN), węglik krzemu (SiC) i podobnych.• Dedykowany termiczny agregat chłodzący do orientometru rentgenowskiego• Pojedynczy pomiar do przetwarzania podłoży lub kryształów objętościowych.• Możliwość pomiaru podłoży lub kryształów objętościowych do 110 mm i maksymalnej wadze 25 kg.• Możliwość pomiaru płaskiego położenia w 4 kierunkach (góra, dół, lewo, prawo).• Możliwość pomiaru różnych orientacji podłoży i kryształów.• Pomiar ręczny.• Pozycja wiązki promieniowania rentgenowskiego w odległości 70 mm od płyty nośnej.• Dokładność: ±0,02°• Powtarzalność: < 0,02°• Wysokość wiązki od podstawy (70 mm)Powierzchnia pomiarowa :- Wymiary mniej niż: 1,8 m (szer.) x 1,2 m (gł.) x 1,2 m (wys.)- Waga: mniej niż 500 kgSzczegółowy opis przedmiotu zamówienia znajduje się punkcie 3 SWZENGLISH VERSION The subject of the order is:Delivery of a set of two X-ray orientometers specifically designed for measuring substrates or bulk crystals such as gallium nitride (GaN), silicon carbide (SiC) and the like.X-ray orientometer – two identical devices.Requirements for X-ray orientometer:• X-ray orientometer designed especially for wafer or ingot measurements such as gallium nitride (GaN), silicon carbide (SiC) and similar.• Dedicated thermal cooling unit for X-ray orientometer.• Single measurement to process wafers or ingots one at time.• Capable to measure wafer or ingot up to 110mm and maximum weight 25kG.• Capable to measure flat position in 4 directions (up, down, left, right).• Capable to measure different wafer and ingot orientation.• Manual system measurement.• X-ray beam position at 70mm of the carrier plate.• Accuracy : ±0,02°• Repeatability : < 0,02°• Beam height from base (70 mm)Footprint :• Footprint less than : 1,8m (W) x 1,2m (D) x 1,2m (H)• Weight : less than 500 Kg A detailed description of the subject of the order can be found in point 3 of the TOR PLEASE SCROLL DOWN FOR THE ENGLISH VERSIONPrzedmiotem zamówienia jest:Dostawa zestawu dwóch identycznych orientometrów rentgenowskich zaprojektowanych specjalnie do pomiarów podłoży lub kryształów objętościowych, takich jak azotek galu (GaN), węglik krzemu...2025-05-06 00:002025-05-06 00:00Europe/Warsawhttps://www.portalzp.pl/przetargi/please-scroll-down-for-the-english-versionprzedmiotem-zamowienia-jestdostawa-zestawu-dwoch-identycznych-orientometrow-rentgenowskich-zaprojektowanych-specjalnie-do-pomiarow-podlozy-lub-krysztalow-11191130?sT=b19569fad79b340426d9994e17fc2ea6e86834ba
(pozostało 25 dni)
Termin realizacji zlecenia:
Część zamówienia: LOT-0001 Data początkowa: 2025-05-19+02:00 Data zakończenia trwania: 2025-12-15+01:00
Informacje o zamawiającym
Organizator:
INSTYTUT WYSOKICH CIŚNIEŃ POLSKIEJ AKADEMII NAUK W WARSZAWIE